1. 光刻机又称掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统，是制造芯片的核心设备。它采用了一种类似于照片打印的技术，通过光照将掩模上的精细图案打印到硅片上。光刻机的类型可分为接触曝光、接近曝光和投影曝光。
2. 光刻机的工作原理是通过一系列光源能量和形状控制手段，将光束通过带有电路图的掩模传输，然后通过物镜补偿各种光学误差，将电路图按比例缩小后映射到硅芯片上。然后，采用化学方法绘制刻在硅芯片上的电路图。
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